据闪德资讯获悉，海外光电工程学会（SPIE）报说念，中国科学院（CAS）接头东说念主员告捷研发打破性的固态深紫外（DUV）激光器女同 t p，能辐射193纳米的接头光（Coherent Light），该波长现在被用于半导体曝光工夫。

而这项工夫已在中国现实室中达成。

淌若光源工夫概况延长，此装配就不错用来制造曝光成立。

以传统工夫来看，ASML、Canon和Nikon的DUV光刻机应用氟化氩（ArF）准分子激光器产生193纳米光源。

这种激光器内包含氩气与氟的羼杂物女同 t p，以及氖气算作缓冲气体。

当施加高压电脉冲时，氩原子与氟原子被激勉，片霎变成不牢固分子ArF（或准分子），此分子赶紧复返基态，开释出波长为193纳米的光子。

由于激光器以短而高能量的脉冲样式辐射这些光子，输出功率高达100W-120W、频率在8~9 kHz。

然后这束193纳米光束透过光学系统进行整形、带领与牢固后，当后光参加光刻扫描器时，会透过光罩（photomask）将芯片电路图案曝光至晶圆上。

中国科学院开荒的测试装配采取全固态措施产生193纳米的光，悉数幸免使用气体的准分子激光。

它先使用好处的Yb：YAG晶体放大器，产生1030纳米的激光束，随后该光束被分红两条光路，每条光路王人历程不同的光学制程，以产生193纳米所需的元件。

在第一条旅途中，1030纳米光束透过四次谐波产生（FHG，Fourth-Harmonic Generation）养息成258纳米的光束。

“四次谐波产生”是种非线性光学制程，可将激光束养息成原始波长的四分之一。

在第二条旅途中，1030纳米光束的另一半被用于泵浦光学参数放大器，产生功率为700mW的1553纳米光束。

这两个光束之后在串联的三硼酸锂（LBO）晶体中融合，产生波长为193纳米的接头光，平均功率为70mW，责任频率为6kHz。

中国科学院默示女同 t p，测试系统的线宽窄于880MHz，其光谱纯度性能可忘形现在使用的商用系统。